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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆生孩子我们坐落苏北城市,首要生孩子8屏幕尺寸半导体技术晶圆,每日污水排卸量约800吨。仍然生孩子环节中施用广泛氢氧化钠去晶圆蚀刻,产生污水里面氟化物质量浓度高达到200-300mg/L,远超國家排卸标准化(10mg/L下面的)。 废水处理工艺基本成分及来源于 废液通常来自五湖四海5个过程: 晶圆蚀刻工作 :含高溶度氟化物(HF)、硝酸铵及极少量巨资属 物理自动化抛光处理(CMP)废水处理 :含nm级硅颗粒状、设计络合剂 设施拆洗废水处理方法 :含异丙醇、氧化还原电位等无机物 清理加工的流程 适用"无机化学奠定+混泥土奠定+厚度净化"两级外理软件: 一层处置 :污泥脱水氯化钙和氢空气氧化钙,转变成氟化钙积淀,氟化物彻底清除率达85% 三级加工处理 :添加图片PAC(汇聚氯化铝)和PAM(高密度聚乙烯酰胺),去掉悬浊液态被污染的物 三级考试净化处理 :借助多有机溶剂油烟净化器器和可溶性炭树脂吸附,喷水氟化物溶度稳定性高在8mg/L以內 重要的设备是指:pH自动的调软件系统、斜管沉淀物池、板框压滤设备(污泥干化脱干)。 最终能够效用 产品作业两年监测站数剧体现: 氟化物人均盐浓度:7.2mg/L(远低于国家地区规则) COD我们要除率:92% 生活污水含水分率:≤65% 年收购氟化钙副产物设备约150吨,达到影视秸秆综合合理利用合理利用

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