杭州某半导体技术集成ic创造厂，晶圆代加工进程中产生了含硅、氟的特俗废污水，制作工作人数1200吨/日。废污水材质较为复杂，内含納米级硅颗粒肥料及氢氧化钠，传统型工作工艺不易考核标准。 污废水 含量及来历 一般造成的固体废弃物 ：溶液硅（100-500nm粒级）、氟铝离子（200-300mg/L）、异丙醇 因素生产工序 ：晶圆刻蚀焦化废水处理工艺（45%）、CMP化学上机诫打蜡 焦化废水处理工艺（40%）、机器设备喷洗水（15%） 整理生产工艺步骤流程 高技术创新采用了"化学上的积累+防化膜区分"高技术风格： 钙盐沉定 ：添加氯化钙除掉氟化合物（绘制CaF2沉淀物中） 二沉池反映 ：符合斜管沉淀池剂保持固体硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm钻孔大小膜挪用微细粒状 反覆盖操作系统 ：脱盐率>98%，收售率75% 多效蒸发心得 ：浓水段体现氟化物零废气 终极效率 氟化物含量：<8mg/L（降到地区一級基准10mg/L） 硅含水量：<5mg/L 水影视资源回收利用率：70%用做水封闭式冷却塔保湿补水 垃圾减轻：汽化渣滓量较常用流程增多60%